ICP光源從本質說是由一個高溫光源(包括RF發生器及炬管等)和一個高效霧化器係統所組成。從ICP問世到如今的量實踐證明,這種光源所進行的分析其所以具有較高精度和準確度,和光源中的幹擾較是分不開的。但是這並不是說它不存在幹擾的問題。現就
ICP光譜分析儀使用中出現的幹擾問題分述如下。
1)物理因素的幹擾
由於ICP光譜分析的試樣為溶液狀態,因此溶液的粘度、比重及表麵張力等均對霧化過程、霧滴粒徑、氣溶膠的傳輸以及溶劑的蒸發等都有影響,而粘度又與溶液的組成,酸的濃度和種類及溫度等因素相關。
溶液中含有機溶劑時,粘試與表麵張力均會降低,霧化效率將有所提高,同時有機試劑部分可燃,從而提高了尾焰的溫度,結果使譜線強度有所提高,當溶液中含有有機溶劑時ICP的功率需適當提高,以抑製有機試劑中碳化物的分子光譜的強度。
除有機溶劑外,酸的濃度和種類對溶液的物理性質也有明顯的影響,在相同的酸度時,粘度以下列的次序遞增HCl≤HNO3<HClO4<H3PO4≤H2SO4。其中HCl和HNO3的粘度要按近些,且較。而H3SO4、H3PO4的粘度且沸點高,因此在ICP光譜分析的樣品處理中,盡可能用HCL和HNO3,而盡量避免用H3PO4和H2SO4。
由上述所見,物理因素的幹擾是存在而且應設法避免,其中主要的辦法是使標準試液與待測試樣無論在基體元素的組成、總鹽度、有機溶劑和酸的濃度等方麵都保持*一致。目前進樣係統中采用蠕動泵進樣對減輕上述物理幹擾可起一定的作用,另外采用內標校正法也可適當地補償物理幹擾的影響。基體匹配或標準加入法能有效消除物理幹擾,但工作量較。
2)光譜幹擾
光譜幹擾是ICP光譜分析中令人頭痛的問題,由於ICP的激發能力很強,幾乎每一種存在於ICP中或引入ICP中的物質都會發射出相當豐富的譜線,從而產生量的光譜“幹擾”。
光譜幹擾主要分為兩類,一類是譜線重疊幹擾,它是由於光譜儀色散率和分辨率的不足,使某些共存元素的譜線重疊在分析上的幹擾。
另一類是背景幹擾,這類幹擾與基體成分及ICP光源本身所發射的強烈的雜散光的影響有關。對於譜線重疊幹擾,采用高分辨率的分光係統,決不是意味著可以*消除這類光譜幹擾,隻能認為當光譜幹擾產生時,它們可以減輕至強度。因此,常用的方法是選擇另外一條幹擾少的譜線作為分析線,或應用幹擾因子校正法(IEC)以予校正。對於背景幹擾,有效的辦法是利用現代儀器所具備的背景校正技術給予扣除。
3)化學幹擾
ICP光譜分析中的化學幹擾,比起火焰原子吸收光譜或火焰原子發射光譜分析要輕微得多,因此化學幹擾在ICP發射光譜分析中可以忽略不計。
4)電離幹擾與基體效應幹擾
由於ICP中試樣是在通道裏進行蒸發、離解、電離和激發的,試樣成分的變化對於高頻趨膚效應的電學參數的影響很,因而易電離元素的加入對離子線和原子線強度的影響比其他光源都要,但實驗表明這種易電離幹擾效應仍對光譜分析有一定的影響。
對於垂直觀察ICP光源,適當地選擇等離子體的參數,可使電離幹擾抑製到的程度。但對於水平觀察ICP光源,這種易電離幹擾相對要嚴重一些,目前采用的雙向觀察技術,能比較有效地解決這種易電離幹擾。此外,保持待測的樣品溶液與分析標準溶液具有致相同的組成也是十分必要。